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真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。请问目前pvd镀膜技术主要应用在哪些行业？

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件金属、半导体或绝缘体表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。玻璃真空镀膜公司

pvd真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的pvd真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之-长的物质(通常为-物)，使镜头对这-长的色光的反射降至低。

塑料在成型后，表面肯定有一定的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。

　　真空镀膜层很薄，很难掩盖基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技术，光固化涂层厚度约10~20um，涂层自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高镀层的光亮度。

塑料中含有水分、残留溶剂、单体、低聚合物、增塑剂等，挥发性小分子会在真空或升温环境下逸出表面，-影响真空镀层对基材的附着力，而采用底涂技术就可阻碍这些小分子的逸出，提高真空镀层对基材的附着力。玻璃真空镀膜公司