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目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：1氧化ceo2，由混合稀土盐类经分离后所得wceo2=99%；2混合稀土氢氧化物reoh3，为稀土精矿wreo***50%化学处理后的中间原料wreo=65%,wceo2***48%；3混合氯化稀土recl3，从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土主要含la,ce,pr和nd,wreo***45%,wceo2***50%；4高品位稀土精矿wreo***60%,wceo2***48%，有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。

以上原料中除种外，第2,3,4种均含轻稀土wreo≈98%，且以ceo2为主，wceo2为48%~50%.我国具有丰富的资源，据-，其工业储量约为1800万吨以ceo2计，这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国---的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。

　　1.4主要生产工艺及设备

　　1.4.1高系稀土抛光粉的生产

　　以稀土混合物分离后的氧化为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料***高温***煅烧***水淬***水力分级***过滤***烘干***系稀土抛光粉产品。

　　主要指标：产品中wreo=99%,wceo2=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm或粒度为200目~300目，晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉。

　　1.4.2中系稀土抛光粉的制备

　　用混合稀土氢氧化物wreo=65%,wceo2***48%为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体沉淀剂使转化成wceo2=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：

　　原料***氧化***优溶***过滤***酸溶***沉淀***洗涤过滤***高温煅烧***细磨筛分***中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。

　中系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11%,抛-率提高35%,制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。

　　低系稀土抛光粉，如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光；797型和c-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光；h-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外，其它抛光粉用于对光学仪器，---机和照像机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量，约占国内总用量85%以上。

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