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多靶磁控溅射仪公司品牌企业 沈阳鹏程真空技术
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产磁控溅射产品，欢迎新老客户莅临。
主要用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。
系统组成:
主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
实用性：设备集成度高，结构紧凑，占地面积小，可以满足客户实验室空间不足的苛刻条件；通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换，实现一机多用；
方便性：设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既-了设备使用方便又-了设备的整洁；
-：设备主要零部件采用进口或国内品牌，以国产设备的价格拥有进口设备的配置，从而-了设备的及性能；
安全性：独立开发的plc+触摸屏智能操作系统在传统操作系统的基础上新具备了漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能，-了设备的使用安全性能；
期望大家在选购磁控溅射产品时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多磁控溅射产品的相关，欢迎拨打图片上的热线电话！！！
小型磁控溅射镀膜系统适合于快速溅射镀膜科研、教学与小批量打样，可快速、低成本的制备多种微纳米厚度的膜层。
具有一体化、占用空间小、灵活的特点，无需380v工业电，无需额外冷水机，采用无油干泵分子泵组，无需操心真空系统和操作间环境泵油污染。
-设备具有优异的与稳定-性。触摸屏控制界面，带来简单、操作方便的体验。
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