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NR73G 6000P光刻胶厂家品质售后-「赛米莱德」
1、负性光刻胶
主要有聚酸系(聚酮胶)和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的kpr为代表，后者以omr系列为代表。
2、正性光刻胶
主要以---醒为感光化台物，以酚醛树脂为基本材料。的有az-1350系列。正胶的主要优点是分辨率高，缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。
3、负性电子束光刻胶
为含有环---、---或环---物的聚合物。 的是cop胶，典型特性:灵敏度0.3~0.4μc/cm2 (加速电压10kv时)、分辨率1.0um、 对比度0.95。---分辨率
的主要因素是光刻胶在显影时的溶胀。
4、正性电子束光刻胶
主要为---、烯砜和---类这三种聚合物。的是pmma胶，典型特性:灵敏度40~ 80μc/cm2 (加速电压20kv时)、分辨率0.1μm、 对比度2~3。
pmma胶的主要优点是分辨率高。主要缺点是灵敏度低，此外在高温下易流动，耐干法刻蚀性差。
光刻是整个集成电路制造过程中耗时长、难度大的工艺，耗时占ic制造50%左右，成本约占ic生产成本的1/3。光刻胶是光刻过程重要的耗材，光刻胶的对光刻工艺有着重要影响。
光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上，为后续的刻蚀步骤作准备。在光刻过程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线---后，光刻胶的化学性质发生变化，在通过显---，被---的光刻胶将被去除，从而实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。再经过刻蚀过程，实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。在刻蚀过程中，光刻胶起防腐蚀的保护作用。
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划分光刻胶的一个基本的类别是它的极性。光刻胶在---之后，被浸入显影溶液中。在显影过程中，正性光刻胶曝过光的区域溶解得要快得多。理想情况下，未---的区域保持不变。负性光刻胶正好相反，在显影剂中未---的区域将溶解，而---的区域被保留。正性胶的分辨力往往是较好的，因此在ic制造中的应用更为普及，但mems系统中，由于加工要求相对较低，光刻胶需求量大，负性胶仍有应用市场。
期望大家在选购光刻胶时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多光刻胶的相关，欢迎拨打图片上的热线电话！！！
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