磁控溅射机厂家的行业须知「沈阳鹏程」

小型自动磁控溅射仪

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。

1. 溅射室---真空度：≤6.6×10-6 pa

2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7pa.l/s

3. 系统从---开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 pa；

4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5pa

5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统

6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%

7. 旋转基片台 1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°c连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为pid自动控温及数字显示

8. 观察窗口及法兰接口部件 1套

9. 工作气路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路； dn16充气阀、管路、接头等2路；

10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源680l/s ，德国普发hipace700分子泵；双室磁控溅射系统想了解更多关于磁控溅射产品的相关，请持续关注本公司。1台机械泵4l/s ，1台dn40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，cc150气动闸板阀1台用于复合分子泵与真空室隔离，节流阀1台，dn40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，

11. 安装机台架组件 1套，由方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。

直流磁控溅射技术的原理

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——生产、销售磁控溅射产品，我们公司坚持用户为---，想用户之所想，急用户之所急，以诚为本，讲求信誉，以产品求发展，以求生存，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创。

直流磁控溅射技术其原理是：在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作，降低薄膜污染的倾向；另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上---薄膜的。同时，经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100a)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。因此磁控溅射法具有“高速”、“低温”的优点。

磁控溅射系统介绍

想了解更多关于磁控溅射产品的相关，请持续关注本公司。

真空泵和测量装置：

低真空：干泵和convectron真空规

高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规

5.控制系统：

硬件：plc和计算机触摸屏控制

自动和手动沉积控制

主要特点：

射频电源：基底预先清洗和等离子体辅助沉积

温度控制器：基底加热

大面积基底传送装置

冷却系统