RR5光刻胶公司-了解更多「赛米莱德」

光刻胶工艺

普通的光刻胶在成像过程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻胶图形的对比度，从而降低了图形的分辨率。随着-加工特征尺寸的缩小，入射光的反射和散射对提高图形分辨率的影响也越来越大。为了提高-系统分辨率的性能，futurrex 的光刻胶正在研究在-光刻胶的表面覆盖抗反射涂层的新型光刻胶技术。首先光刻胶被从容器中取出滴布到置于涂胶机中的样品表面，(由真空负压将样品固定在样品台上)，样品然后高速旋转，转速由胶粘度和希望胶厚度确定。该技术的引入，可明显减小光刻胶表面对入射光的反射和散射，从而-光刻胶的分辨率性能，但由此将引起工艺复杂性和光刻成本的增加。

nr77-20000prr5光刻胶公司

6，坚膜

坚膜也叫后烘，是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象，能使胶膜附着能力增强，康腐蚀能力提高。坚膜温度通常情况高于前烘和-后烘烤的温度 100-140度 10-30min,7，显影检验,光刻胶钻蚀、图像尺寸变化、套刻对准-、光刻胶膜损伤、线条是否齐、陡，针kong、小岛。通过用强酸刻蚀玻璃板，niepce在1827年制作了一个damboise-的雕板相的产品。

8刻蚀

就是将涂胶前所垫基的薄膜中没有被光刻胶覆盖和保护的那部分进行腐蚀掉，达到将光刻胶上的图形转移到下层材料的目的。湿法刻蚀，sio2,al, poly-si 等薄膜，干法腐蚀。

光刻胶

光刻胶组分及功能

光引发剂

光引发剂吸收光能辐射能后经激发生成活性中间体，并进一步引发聚合反应或其他化学反应，是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。

树脂

光刻胶的基本骨架，是其中占比较大的组分，主要决定-后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、-前后对溶剂溶解度的变化程度、光学性能、耐老化性、耐蚀刻性、热稳定性等。

溶剂

溶解各组分，是后续聚合反应的介质，另外可调节成膜。

单体

含有可聚合-团的小分子，也称之为活性稀释剂，一般参加光固化反应，可降低光固化体系粘度并调节光固化材料的各种性能。