光刻胶的应用
光刻胶的应用
1975年,美国的国际半导体设备与材料协会首先为微电子工业配套的超净高纯化学品制定了国际统一标准——semi标准。1978年,德国的伊默克公司也制定了mos标准。两种标准对超净高纯化学品中金属杂质和(尘埃)微粒的要求各有侧重,分别适用于不同级别ic的制作要求。同种厚度的正负胶,在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶-,正胶-。其中,semi标准更早取得范围内的-。
下游发展趋势
光刻胶的和性能是影响集成电路性能、成品率及-性的关键因素。光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的35%,并且耗费时间约占整个芯片工艺的40%到50%。光刻胶材料约占ic制造材料总成本的4%,市场-。因此光刻胶是半导体集成电路制造的-材料。2016年全球半导体用光刻胶及配套材料市场分别达到14.5亿美元和19.1亿美元,分别较2015年同比增长9.0%和8.0%。光刻胶企业通常运营成本较高,下游厂商采购时间较长,为在设备、研发和技术服务上取得竞争优势,需要足够的中后期资金支持。预计2017和2018年全球半导体用光刻胶市场将分别达到15.3亿美元和15.7亿美元。随着12寸-技术节点生产线的兴建和多次-工艺的大量应用,193nm及其它-光刻胶的需求量将快速增加
lcd市场助力
全球lcd面板总出货面积增长,lcd光刻胶需求增加。据witsview数据,虽然近三年国际lcd厂商面板出货量有所下降,但是由于大屏显示的市场扩增,lcd整体出货面积变大,2016年出货总面积达到1.7亿平方米,同比增长4.6%。随着lcd出货面积的持续增长,中国产业-预测,未来几年全球lcd光刻胶的需求量增长速度为4%~6%。2010年到2015年期间,国际光刻胶市场年复合增长率约为5。随着国内厂商占据lcd市场比重越来越大,国内lcd光刻胶需求也会持续增长。
彩色薄膜少了光刻胶,产生不了绚丽的画面
显示器是人与机器沟通的重要界面。光刻胶是整个光刻工艺的重要部分,也是国际上技术门槛较高的微电子化学品之一,主要应用在集成电路和平板显示两大产业。光刻技术决定了集成电路的集成度,技术节点的推进和实现。
章宇轩介绍,我们在日常工作生活中,之所以能从显示屏幕上看到色彩斑斓的画面,就是离不开屏幕中厚度只有2μm、却占面板成本16%的一层彩色薄膜。然而,彩色薄膜颜色的产生,必须由光刻胶来完成。
lcd是非主动发光器件,其色彩显示必须由本身的背光系统或外部的环境光提供光源,通过驱动器与控制器形成灰阶显示,再利用彩色滤光片产生红、绿、蓝三基色,依据混色原理形成彩色显示画面。
其中,根据颜色的不同,可以将光刻胶分为黑色、红色、绿色、蓝色四种。彩色滤光片的制作就是在玻璃基板上应用黑色光刻胶制作黑色矩阵,再应用红、绿、蓝光刻胶制作三原色像素。
联系时请说明是在云商网上看到的此信息,谢谢!
推荐关键词:光刻胶,正性光刻胶,光刻胶公司
本页网址:https://www.ynshangji.com/xw/24896468.html