NR9 3000P光刻胶报价「赛米莱德」
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硅片制造中,光刻胶的目的主要有两个:1将掩模版图形转移到硅片表面顶层的光刻胶中;2在后续工艺中,保护下面的材料例如刻蚀或离子注入阻挡层。
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光刻胶的技术复杂,品种较多。根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶;反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶。图1是正性胶的显影工艺与负性胶显影工艺对比结果示意图 [2] 。
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树脂( resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质( 如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(solvent),保持光刻胶的液体状态,使之具有---的流动性;添加剂( additive ),用以改变光刻胶的某些特性,如---光刻胶发生反射而添加染色剂等。负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯,一-种天然的橡胶;溶剂是;感光剂是一种经过---后释放出氮气的光敏剂,产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不溶于显影液。负性光刻胶在---区由溶剂引起泡涨;---时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。
注意事项:
若腐蚀液为碱性,则不宜用正性光刻胶;
看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题
负性胶价格成本低,正性胶较贵;
工艺方面:负性胶能---地获得单根线,而正性胶可获得孤立的洞和槽;
健康方面:负性胶为有机溶液处理,不利于环境;正性胶属于水溶液,对健康、环境无害。
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