PVD真空镀膜厂家-「在线咨询」

请问pvd镀膜的具体原理是什么？离子镀膜(pvd镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间或决定于装料量，并与源和基片的距离有关。

真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。pvd真空镀膜厂家

pvd镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的pvd真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

pvd真空镀膜加工的优点：

金属外观，·颜色均匀一致，·颜色深韵、光亮，膜层颜色种类繁多，表面细腻光滑，富有金属光泽，。耐久的表面，在各种基本的的空气和直射阳光环境条件下保持---外观。·，抗腐蚀。耐腐蚀，化学性能稳定，·抗酸。在常规环境下，户内或者户外，都，，不失去光泽并不留下痕迹。