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真空蒸发镀膜是指在真空条件下，通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。被蒸发的物质被称为蒸镀材料。蒸发镀膜早由m.法拉第在1857年提出，经过一百多年的发展，现已成为主流镀膜技术之一。

真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸-使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。

---思路：基片本身的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本身可能是膜料匹配问题。

---对策：

1、改进膜系，层不用氧化---。

2、尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备工作。

3、真空室在更换护板、清洁后，好能空罩抽真空烘烤一下，更换的护板等真空室部件必须干燥、干净。

4、---环境

5、妥善保护进罩前在伞片上的镜片，免受污染。

6、---洗净、擦拭效果。

7、---膜匹配考虑层用al2o3

8、---膜充氧和蒸发速率降低

9、加快前工程的流程。前工程对已加工光面的保护加强。

10、抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他杂质附着干结。

相信大家都电镀已经不陌生了，我们生活中的使用的很多东西表面都经过了电镀的处理，不过你知道吗?电镀中会添加一些添加剂，从而让表面处理的效果---，今天我们为大家介绍一下常用的添加剂有哪些?有什么作用?

比较常用的电镀添加剂为光亮剂，其他还包括柔软剂、沙面剂、走位剂、抗剂等等。

这些添加剂的用量虽然非常少，可能一升电镀液中只需要加入几毫升即可，但是它的作用却是非常大的，可以让整个电镀的效果提升好几个---。