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光催化材料的发展方向和应用前景
从目前的情况来看, 光催化氧化技术具有---的应用前景和---的发展潜力。但是由于该方法是近十几年才发展起来的, 许多方面的研究还不是很成熟, 故大量的研究只是停留在实验室阶段。其中西方和日本的起步较早,我国是近几年才开始重视和开展关于光催化氧化反应的工作。
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外加磁场对光催化的影响
现有研究发现,磁场有助于自由基的生成,因此能提高光催化材料的降解效率。姜焕伟等在降解的研究中发现, 外加磁场可以促进类有机物的光催化降解。随着磁场场强的增加,光催化降解速度加快,半衰期变短。磁场场强为0. 32 t时, 光降解速率常数为0. 754 h - 1 , 比无磁场时提高了12.5 %。
离子掺杂对光催化性能的影响金属离子掺杂就是通过反应将金属离子转入tio2 晶体结构中。掺入不同的金属离子,其结果也不同。金属离子掺杂可以使tio2 的带隙变窄,使光催化材料的吸光范围加宽, 能有效地利用太阳能。此外,金属离子可以抑制电子与空穴的复合时间,界面电荷传输速率变大,使光催化活性---提高。近年来---已有大量的---关于掺杂金属离子的研究, 如掺fe3 +、ag +、cu2 +、la3 +等。
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