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莞城手机配件IP电镀加工厂家常用指南「瑞泓科技」

发布者:深圳市瑞泓科技有限公司  时间:2022-3-7 






1、铜-镍-铬厚度搭配不当;当镍层和铜层的厚度搭配不当时,做冷热循环,因镍层的应力较大,在高温或低温时被释放,这时需要利用铜层的延展性进行分散,当铜层的厚度未能完全分散应力时,造成镀层起泡。

2、粗化---或者亲水---;当所用胶件含有pc料或者其他耐火料、增强料等的掺杂,使的粗化时,基材的应力未完全得到施放或者粗化不---,导致在冷热循环的高温状态时,因镀层和基才的结合力不好,而引起起泡。



水电镀因工艺较简单,从设备到环境得要求均?有真空离子镀苛刻,从而被广泛应用.但水电镀有个弱点,只能镀abs料和abs+pc料此料镀的效果也不是很理想。而abs料耐温只有80℃,这使得它的应用范χ被---了。而真空电镀可达200℃左右,这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了。真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合要求。简单一点,就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术。


按使用的原材料材质不同,溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶材等。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制,可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜,所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点,已成为制备薄膜材料的主要技术之一,各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用,因此,对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加,溅射靶材亦已成为目前市场应用量较大的pvd 镀膜材料。


卷绕式真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2μm,可以在这个范围内选择,有的还可以镀多层膜,满足多种需要。日本提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室(6)分为上室(7),左下室(8)和右下室(9)。蒸镀时,两组蒸发源(19、23)蒸发的镀膜材料(21、25)分别沉积在塑料薄膜(11)上,在塑料薄膜没有蒸镀的一侧,装上辉光放电发生器(15、16)。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜,用于制磁带和薄膜太阳能电池等



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