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漫反射技术的应用
漫反射技术主要用于测量粉末样品和浑浊的液体,适用于不可用压片法测量的样品。在高分子材料及其添加剂、煤、矿物、纤维等的ir测量中得到广泛应用。
1、要求不改变初始状态的样品
在很多研究工作中,要求保持样品的初始状态,但经过红外制样后往往会改变了这种初始状态,而使用漫反射光谱测量可以满足这一要求。如为了连续观测导电高分子粉末样品在空气中的氧化降解或者分析固体样品的表面形貌,把样品制成kbr压片显然是不适宜的。
2、难以压片制样的样品
对于某些难以碾碎或者颜色太深的样品,不适宜用红外压片法制样。如煤、矿物、导电高分子等通常有很深的颜色,进行正常的透射测量,必须采用极薄的膜,而且由于光的散射得不到高的光谱;纤维、橡胶等难碾碎制样的样品,用红外透射测量也是很困难的。而漫反射基本不需要制样,对于该类样品非常适用。
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漫反射金属面板及其加工方法
涉及一种耐激光辐照的金属面板及其加工方法,尤其是一种具有漫反射特性的耐激光辐照的金属面板及其加工方法。
在高能激光参数测量中,由于入射激光能量较高,能量转化为热量在测量装置的激光接收表面沉积,进而引起测量装置的损伤,因此在实际应用中需要对测量装置进行有效的防护,---测量设备自身的安全和稳定工作。
目前采用的防护面板主要有镜面反射表面处理和漫反射表面处理两种。
镜面反射表面处理采用在金属面板上镀高反射膜的方法, 对激光的反射率可达97%以上,可以满足激光测量装置的防护要求,但是需要对反射光进行防护,尤其是当反射光沿入射光方向原路返回时会给激光元器件造成---损伤,故---了其应用;
漫反射表面是处理将金属面板表面喷砂或打磨处理为漫反射面,对激光的反射大约在80%左右,其反射光沿多个方向漫反射,避免了对光路上元器件的破坏并降低了防护要求,但是其存在表面反射率较低,抗激光辐照破坏能力较弱的问题,通常情况下只用于较低功率的激光防护。
散射和漫反射的区别吗
散射和漫反射的区别:
漫反射:光线照到不平的表面而发生光路变化的现象。
光线投射到粗糙表面时,它向各方向反射,称为漫反射。
散射是被投射波照射的物体表面曲率较大甚至不光滑时,其二次辐射波在角域上按一定的规律作扩散分布的现象。
漫反射也和镜面反射一样遵循光的反射定律,但是散射体为光的波长的十分之一左右,散射体的形变不再重要,可以近似为圆球。
散射体为光的波长的十分之一左右,散射体的形变不再重要,可以近似为圆球。
对入射光散射所遵循的规律是散射光和入射光波长相同,散射光的强度和散射方向有关,并和波长的四次方成反比。
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