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南昌四-碳价钱-纯度高「安徽谱纯」

发布者:安徽谱纯气体科技有限公司  时间:2022-3-13 






以活性炭与氟为原料经---反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。四---碳,又称为四氟甲1烷、freon-14及r 14,是一种卤代烃(化学式:cf4)。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲1烷、全---碳,也可以被视为一种无机化合物。它在---中的寿命约为50,000年,全球增温(全球暖化)系数是6,500(---的系数是1)。虽然结构与氟氯烃相似,但四---碳不会破坏臭氧层。





预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应。含镁大于2%的合金不能用。在高温,一些金属起加速cf4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下:因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。反应放热后,氟开始和碳化硅进行反应,通入等体积的干燥氮气以稀释氟气,使反应继续进行,生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化。








四---碳也一样,比如我们公司生产的钢瓶装四---碳在14mpa的气压下也是液态的,在正常---压下就是气态的,四---碳是有一定毒性的应该不能用作呼吸。四---碳在不同的---压下呈现的状态是不同的,就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四---碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高.四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。





是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,高纯气高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。温室气体,其造成温室效应的作用是---的数千倍。氟代烃的低层---中比较稳定,而在上层---中可被能量的紫外线分解。在全球范围内,高纯度四---碳应用于欧洲、亚太地区、北美、中东、非洲和南美洲等地区,受电子产业发展程度不同影响,对于高纯度四---碳的需求也不同,亚洲地区由于电子产业发展落后,近几年电子电器行业处于快速发展状态,因此使得该地区的高纯度四---碳消费量持续---。



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