登录后台
NR9 3000PY光刻胶厂家-「赛米莱德」
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。
光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过-后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显-被溶解，只留下未受光照的部分形成图形；而负胶却恰恰相反，经过-后，受到光照的部分会变得不易溶解，经过显-，留下光照部分形成图形。
负胶在光刻工艺上应用早，其工艺成本低、产量高，但由于它吸收显影液后会膨胀，导致其分辨率即光刻工艺中所能形成图形不如正胶，因此对于亚微米甚至更小尺寸的加工技术，主要使用正胶作为光刻胶。
光刻胶市场需求逐年增加，2018年全球半导体光刻胶销售额12.97亿美元，而国内光刻胶需求量方面，2011年光刻胶需求量为3.51万吨，到2017年需求量为7.99万吨，年复合增长率达14.69%。
国内光刻胶需求量远大于本土产量，且差额逐年扩大。由于中国-光刻胶市场起步晚，目前技术水平相对落后，生产产能主要集中在pcb光刻胶、tn/stn-lcd光刻胶等中低端产品，tft-lcd、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能很少。
想了解更多关于光刻胶的相关，请持续关注本公司。
光刻加工工艺中为了图形转移，辐照必须作用在光刻胶上，通过改变光刻胶材料的性质，使得在完成光刻工艺后，光刻版图形被拷贝在圆片的表面。而加工前，如何选用光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。尽管正性胶的分辨力是较好的，但实际应用中由于加工类型、加工要求、加工成本的考虑，需要对光刻胶进行合理的选择。
联系时请说明是在云商网上看到的此信息，谢谢！
推荐关键词：光刻胶,正性光刻胶,光刻胶公司
本页网址：https://www.ynshangji.com/xw/26073381.html
声明提示：
本页信息（文字、图片等资源）由用户自行发布,若侵犯您的权益请及时联系我们，我们将迅速对信息进行核实处理。
