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光刻胶市场

全球光刻胶市场扩增，对光刻胶的总需求不断提升。据估计，2015年国际光刻胶市场达73.6亿美元，其中pcb光刻胶占比24.5%，lcd光刻胶占26.6%，半导体光刻胶占比24.1%。2010年到2015年期间，国际光刻胶市场年复合增长率约为5.8%；据中国产业---数据，2015年，pcb光刻胶、lcd光刻胶和半导体光刻胶的国际市场增速均在5%左右。在下游产业的带动下，江瀚咨询预计国际光刻胶市场规模在2022年可能突破100亿美元。《集成电路产业发展推进纲要》，提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备，开发光刻胶、大尺英寸硅片等关键材料”。

芯片光刻的流程详解二

所谓光刻，根据---的定义，这是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用---和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、sos中的蓝宝石。光刻胶企业通常运营成本较高，下游厂商采购时间较长，为在设备、研发和技术服务上取得竞争优势，需要足够的中后期资金支持。

光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂或称光刻胶感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。

pr1-1000a1

nr9-3000py 负性光刻胶

负胶 nr9-3000py 被设计用于i 线365 nm---，可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻

和接触式光刻等工具。

显影之后，nr9-3000py 展现出一种倒梯形侧壁，这可以方便地作单纯的lift-off 处理。

nr9-3000py 相对于其他光刻胶具有如下优势：

- 优异的分辨率性能

- 快速地显影

- 可以通过调节---能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度

- 耐受温度100℃

- 室温储存保质期长达3 年

lift-off工---

應用領域：leds，oleds，displays，mems，packaging，biochips。

濕法蝕刻，鍍 干法蝕刻rie/ion milling/ion implantation

附着力好temperature resistance = 100°c 耐高溫temperature resistance = 180°c

resist thickness nr9-3000py 负性光刻胶

负胶 nr9-3000py 被设计用于i 线365

nm---，可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻

发展

futurrex在开发产品方面已经有很长的历史

我们的客户一直在同我们共同合作，创造出了很多---的产品。

在晶体管(transistor) ，封装，微机电。显示器，oleds，波导(waveguides) ，vcsels，

成像，电镀，纳米碳管，微流体，芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。

目前futurrex有数百个技术在美国商标局备案。

futurrex 产品目录

正性光刻胶

增强粘附性正性光刻胶

负性光刻胶

增强粘附性负性光刻胶

---工艺负性光刻胶

用于lift-off工艺的负性光刻胶

非光刻涂层

平坦化，保护、粘接涂层

氧化硅旋涂(spin-on glas)

掺杂层旋涂

辅助化学品

边胶清洗液

显影液

去胶液

futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(hmds)