中山注塑特种灯具反光杯在线咨询「锦城镀膜」

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真空镀膜之多弧离子镀 ：

部分离子对阴极的轰击又使阴极斑点局部快速蒸发并在空间迅速离化,使这些阴极弧斑点变成微小蒸发源,这些微小蒸发源在磁场和屏蔽绝缘的作用下束缚在阴极靶面做无规则运动,从而形成大面积均匀的蒸发源,喷发出电子、离子、熔融的金属材料和原子。溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差。大部分是离子和熔融粒子,在偏压作用下,离子流在基体上凝聚成金属、合金或化合物薄膜。

物理l气相沉积法主要有真空蒸镀、溅射和离子镀。

真空蒸镀：在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发，然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀。

溅射：溅射是利用高速正离子轰击某一靶材阴极，使靶材表面原子以一定能量逸出，后在工件表面沉积的过程。

离子镀：离子镀借助于一种惰性气体的辉光放电使欲镀金属或合金蒸发离子化，并在这些荷能离子轰击基体工件表面并同时沉积在其上形成镀膜。

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：

离子轰击：指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗，能有效去除工件表面的氧化物；但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。

本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这---镀膜时反应气体的纯度,从而---膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3

pld缺点：1、在镀膜过程中，薄膜会被沉积在薄膜上的等离子本管中产生的微粒、气态原子和分子降低，采取一定的措施后也

不能完全消除.2、在控制掺杂、生长平滑的多层膜等方面pld生长部比较困难，因此进一步提高薄膜的会比较困难.