肇庆电筒反光杯注塑在线咨询「锦城镀膜」

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 ：

在膜层沉积时，用于增加离子能量，促进和-薄膜生长，提高膜基结合力。

偏压越大离子附加能量越强，沉积过程中对膜层的轰击净化作用越明显，膜层越致密，同时颜色会越浅，膜层l值亮度会增加，显微硬度会增加、同时膜层外观粗糙度会变差，沉积过程中工件和膜层温升越大，偏压太大可能使工件变形-，或产生热应力崩膜。

常见的溅射有两种：不反应溅射和反应溅射。不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体，一般使用y气ar，称为工作气体。不反应溅射一般都用在镀金属膜层上，导电性能越好的材料，溅射速率越高。

镀膜基片

镀膜基片有：浮法原片、切磨玻璃、钢化玻璃、彩釉玻璃、夹层玻璃等。镀膜前基片必须用纯净水清洗，去除基片表面的灰尘、污垢、油腻等杂质，因为表面的杂质将会影响膜层的附着能力，或者影响镀膜玻璃的外观。如果基片表面存在胶印、笔印等不能清洗掉的杂质，在清洗之前必须用酒精将杂质擦去。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑,从而使阴极材料蒸发并电离,形成金属等离子体。