矿工头灯反光杯注塑服务为先 锦城镀膜

佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质---，求真务实，顾客”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 ：

靶功率；普通真空镀膜亦称真空蒸镀时，工件夹在真空罩内，当高温蒸发源通电加热后，促使待镀材料——蒸发料熔化蒸发。磁控溅射本身粒子初始动能比较小，离化率低，电源功率越大，溅射出的粒子的初始能量越大，靶材溅射量也越大，沉积速率越快，膜层容易上厚度和硬度，同时工件温升也大，过高的功率会使沉积速率太快，粒子来不及表面迁移和扩散，易形成阴影效应，膜层会比较疏松，应力较大。

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镀膜时间：膜层厚度随镀膜时间的增加而增加,但不是线形增加,当厚度达到一定的时候,增加速度会变慢后基本停止,而且镀膜时间越长膜层应力越大.外观越差。

送气方式和气体流量：采用从少到多逐步增加气体流量的方式加气使膜层从金属逐渐过渡到化合物是---的一种加气方式，如做黑膜这样还可以---靶，使颜色做得更深。

物理q相沉积法真空镀膜技术由于这种方法基本上都是处于真空环境下进行的，因此称它们为真空镀膜技术。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。

真空镀膜技术是使置待镀金属和被镀塑料制品位于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。

溅射镀膜原理：

溅射镀膜是利用溅射现象来达到制取各种薄膜的目的，即在真空室中利用荷能离子轰击靶表面，使被轰击出的粒子在基底上沉积的技术。辉光放电是在10-2pa-10pa真空度范围内，在两个电极之间加上高压时产生的放电现象。它是离子溅射镀膜的基础，即离子溅射镀膜中的入射离子一般利用气体放电法得到。镀膜技术也叫薄膜技术，是在真空条件下采用物理或化学方法，使物体表面获得所需的膜体。