PVD镀膜工艺及参数在线咨询 金百辰镀膜设备

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pvd镀膜工艺及参数与您分享pvd镀膜膜层的特点,采用pvd镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、---的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

pvd镀膜能够镀出的膜层种类,pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、---、铬等),氮化物膜(tin、zrn、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),以及氧化物膜(如tio等)。pvd镀膜膜层的厚度—pvd镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。

喷砂

喷砂是以压缩空气为动力，形成高速喷射束喷射到需---的工件表面，把表面的杂质、杂色及氧化层清除掉，同时使产品表面达到一定的光洁度，消除工件残余应力和提高基材表面硬度。

钝化

钝化处理是化学清洗的重要处理工艺，可以预防基材的腐蚀现象。另外，钝化处理能去除精密、高精密刀具刃口毛刺、清洁镀后涂层表面大颗粒及抛光表面涂层等作用。使用的砂料，主要有粗砂和细砂两种。

pvd镀膜

pvd是英文physical vapor deition物---相沉积的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。物---相沉积技术工艺过程简单，对环境---，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。