微弧氧化电源厂商欢迎来电「日照微弧技术」

与普通的阳极氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，与基质结合紧密， 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合-良，与基体结合牢固, 且工艺简单，对环境污染小, 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究, 在工业上得到了一定的应用, 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。3．基体原位生长氧化膜，氧化膜与基体属冶金结合，结合牢固，氧化膜致密均匀。

微弧氧化技术的特点

1、大幅度地提高了材料的表面硬度，显微硬度在 1000 至 2000hv ，高可达 3000hv ，可与硬质合金相-，大大超过热处理后的高碳钢、高合金钢和高速工具钢的硬度；

2、有-的绝缘性能，绝缘电阻可达 100m ω。

3、溶液为型，符合排放要求。

4、工艺稳定且- , 设备工艺简单， 。

5、 反应在常温下进行，操作方便，易于掌握。

镁合金微弧氧化膜层性能检测

镁合金微弧氧化膜层性能检测主要从以下几个方面进行：外观检测、厚度测定、硬度测定、表面处理层与基体结合力、耐蚀性能评价以及耐磨性测定等。经微弧氧化后，借助天然散色光或在日光下目测检验，观察氧化层的孔隙大小、色泽均匀程度、有没有斑点、脱皮等现象。微弧氧化表面处理、微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化。

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