PVD真空镀膜工艺参数询价咨询「在线咨询」

当今镀膜行业使用的制作方式主要有两种，一种是化学气相沉积，也就是化学镀膜cvd，一种是物---相沉积，也就是真空镀膜pvd。化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀件表层杂质多，镀出来的效果不好。化学镀膜需要的反应温度---，一般要控制在 1000℃左右，但很多基体材料是无法经受如此高温，性能变坏。如在硬质合金刀具上蒸镀 tin，基体扩散出来的碳会与溶液发生反应而形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，造成刀具使用寿命缩短。而 pvd 技术解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生有毒或有污染的物质，镀出来的膜层硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性好，性能更稳定，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高 2-10 倍。

因此，从行业的技术发展趋势来看，等离子处理、真空法将成为未来行业技术发展的方向。

抛光

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使pvd涂层产品表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对pvd涂层产品表面进行的修饰加工。抛光处理以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽。通常以抛光轮作为抛光工具。

脱气

脱气是将已经超声清洗的待镀产品在真空环境下通过加热、保温、冷却的方式使待镀产品盲孔、缝隙、焊接处，以及产品表面等部位没有被超声清洗干净的杂质、油污和易挥发的材料在高温、真空条件下挥发出来，---产品在镀膜时不会被杂质气体氧化、导致涂掉膜甚至污染炉腔的一种深层次的清洁方式。