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废气处理设备：吸收设备

   吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对vocs进行吸收，再利用vocs和吸收剂物理性质的差异进行分离。

   含vocs的气体自吸收塔底部进入塔内，在上升过程中与来自塔顶的吸收剂逆流接触，净化后的气体由塔顶排出。吸收了vocs的吸收剂通过热交换器后，进入汽提塔顶部，在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的vocs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的vocs气体离开汽提塔，被回收利用。该工艺适合于vocs浓度较高、温度较低的气体净化，其他情况下需要作相应的工艺调整。

废气处理设备：吸附设备

   在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上，此现象称为吸附。吸附处理废气时，吸附的对象是气态污染物，气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质，多孔固体物质称为吸附剂。

   固体表面吸附了吸附质后，一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离，此现附。而当吸附进行一段时间后，由于表面吸附质的浓集，使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求，此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附，以协的吸附能力，这个过程称为吸附剂的再生。因此在实际吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循环过程，达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。

废气处理设备：光催化和生物净化设备

   光催化是常温-反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成-无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在-的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。

   从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就-激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或-物，如 ti0。、zn0、zns、cds及pbs等。这些催化剂各自对特定反应有-优点，具体研究中可根据需要选用，如cds半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以-地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。