特殊材料电镀定-务周到 东莞泓瑞公司

真空电镀是要蒸发的物质在真空条件下被蒸发器加热，蒸发并输送到基底上，并在基底上冷凝形成固体膜的过程。与其他气相沉积技术相比，真空电镀具有许多优点:设备简单，操作方便；制备的薄膜纯度高，成膜速度快；薄膜生长机理简单，易于控制和模拟。

真空电镀技术的缺点:难以获得晶体结构的薄膜；沉积的薄膜与基底之间的附着力差；工艺重复性不够好。

镀膜制造需要部分耗材

　　1.sio2颗粒或环状(***300****230*t7.5mm,)需要根据机台配置选用

　　2.tio2颗粒

　　3.晶振片filtex 6mhz或inficon6mhz

　　4.监控片bk7 φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用

　　5.铜坩埚,需要根据机台配置选用

　　6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm

　　7.电子灯丝,需要根据机台配置选用

　　8.离子源,需要根据机台配置选用耗材

　　三,设备日常维修保养部件需要根据机台型号选用

　　四,光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样,尺寸可以选择,900mm,1100mm,1300mm,1350mm,

真空电镀主要包括：

真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，