派瑞林镀膜厂商服务「拉奇纳米」

手机壳真空镀膜加工技术，就可以较好地解决这个难题。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过---机壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以较大地防止因电磁波辐射而---机使用者造成的危害。

按镀膜机操作规程对真空室进行抽真空。当真空度达到3710pa-以后，依次对舟预熔，去除膜料中的气体。此时，应注意用挡板挡住膜料，以---预熔中基片不被镀上。

　真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。

任何固体材料在---环境下都会溶解和吸附一些气体，当材料置于真空状态时就会因为脱附、解析而出气。出气的速率与材料中的气体含量成正比。不同的材料解析的气体成分及解析的温度及时间是不同的。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物---相堆积pvd技术和化学气相堆积cvd技术。

物---相堆积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀细密、薄膜厚度可控性好、运用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分安稳的合金膜和重复性好等长处。一同，物---相堆积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因而可作为z终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。

真空镀膜加工的基本技能要求

9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细，均按gb/t11164-1999中的4.4.6

10、其他注意事项

1环境温度：10-30oc2相对湿度：不大于75%   3冷却水进水温度：不高于25oc   4冷却水质：城市自来水或相当的水。   5供电电源：380v三相50hz或220v单相50hz(由所用电器需求而定)；电压波动范围：342-399v或198-231v；频率波动范围：49-51hz。6设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品运用说明书中写明。7设备周围环境整齐，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。