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　　pvd是英文physical vapor deition(物---相沉积)的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

　　pvd技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发、高---性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。与cvd工艺相比，pvd工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;pvd工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。当前pvd涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

卷绕式镀膜机30年来有了较大的发展，镀膜产品广泛用于装饰、包装、电容器等领域中，可镀光学、电学、电磁、导电等多种薄膜。所用基材有pe、pet、pi、pp、opp、bopp、纸、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量为1%～2%，纸含水量，一般为5%-7%，经涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。双室结构应用普遍，其优点是：可以蒸镀放气量较大的纸基材，并能保障镀膜。纸放出的大量气体从卷绕室中被排走。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小，使放出来的气体不易进入蒸镀室中；单室结构必须配置较大的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力，而双室结构中的蒸镀室气体量较小，可配小型抽气机组，使设备成本降低，并节约能源；卷绕室与蒸镀室分别抽气，可缩短抽气时间。

　　带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要，因为只有卷绕机构---带状基材的线速恒定，才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜如电容器膜尤为重要。

　　带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高，带状基材在卷绕镀膜过程中，起褶和发生偏斜，---时会造成基材的断裂，使生产中断，既影响生产效率，又浪费材料。因此，在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。