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惠州塑胶真空镀膜加工厂服务介绍 泰坦金属制品有限公司

发布者:东莞市泰坦金属制品有限公司  时间:2022-5-30 






请问采用pvd镀膜技术镀出的膜层有什么特点?采用pvd镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、---的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以---膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。


离子镀:正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子约占蒸发料的95%也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用离子能量约几百~几千电子伏和离子对基片的溅射清洗作用,使膜层附着强度---提高。离子镀工艺综合了蒸发高沉积速率与溅射---的膜层附着力工艺的特点,并有---的绕射性,可为形状复杂的工件镀膜。


真空镀膜技术一般分为两大类:物---相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。真空蒸镀,其原理是在真空条件下,用蒸发器加热带蒸发物质,使其气化或升华,蒸发离子流直接射向基片,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。真空镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,


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