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学蚀刻机腐蚀的特性 1、工艺的严密性比较高稳定性强,以感光油墨光固的方式做保护层。 2、边角不会有刮花、毛刺、麻点等现象。 3、---可自由掌控。 4、可以监控,图像转移钱处理环节就能判断后面是否有问题,降低报废率。 5、表面附着物可立即设备清理露出基板底色。 6、图案可根据客户要求---更换,单双面异形件均可且成本低。 7、产量相对较高且可以加工多种金属。 化学腐蚀机腐蚀与电腐蚀机腐蚀的特性。
腐蚀机,主要用于电路板精密线路蚀刻;也可用于硬板、软板、软硬结合板、smt模板、微波混合电路、壳体的蚀刻加工。 电路板湿处理设备,含分药液加工单元和水洗两个单元,中间和尾端有风干装置。用向移动的工件喷射药液的方式,对工件进行显影、蚀刻、去膜、水洗加工,是由液体喷射系统和工件移动运动系统组成的。 所用液体为蚀刻剂时,蚀刻剂与电路板上的抗蚀剂不发生作用,只与未被抗蚀剂保护的在外的铜箔反应,使铜元素较终以化合物的形式溶解到蚀刻剂中,被从电路板基材上去除,从而实现对电路板选择性的蚀刻加工。
离子植入:其是用来控制半导体中杂的关键程序,对半导体表面附近区域进行掺杂技术。优点在于杂的控制,杂质分布的再重整,及低温下操作。 离子植入机主要的供厂商为amat,中国部份只有中电科电子装备公司能供应。市场预计今明两年中国离子植入机需求可达5亿美元与7亿美元。 沉积:pvd沉积为一种物理制程,此技术一般使用等惰性气体,藉由在高真空---离子以加速撞击溅镀靶材后,将靶材原子一个个溅击出来,使被溅击出来的材质沉积在晶圆表面。 薄膜沉积设备主要的供应商包含应用材料、vaportech、lamresearch、asm、tokki等。而中国相关设备制造厂有北方华创、沈阳拓荆等。北方华创是中国薄膜沉积设备---,目前技术已达到14nm。市场预计今明两年中国薄膜沉积设备需求可达15亿美元与20亿美元。 测试:在晶圆完成制造之前,会有一道晶圆中测工序。在测试过程中,会检测每一个芯片的电路功能。
腐蚀是将金属工件使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
腐蚀技术可以分为『湿腐蚀』(wet etching)及『干腐蚀』(dry etching)两类。
通常所指腐蚀也称光化学腐蚀photochemical etching,指通过贴不干胶;---制版、显---或丝印网版形成图像转移,将需腐蚀区域的保护油墨去除露出需要腐蚀的地方,在腐蚀时金属接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
早可用来制造铜版、锌版、不锈钢等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量(weight reduction)仪器镶板,广告牌标牌及传统加工法难以加工之薄形工件等之加工;经过不断的技术改良和工艺设备发展,也可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密腐蚀产品的加工,---在半导体制程上,腐蚀更是不可或缺的技术。
比如不锈钢过滤网片,圆孔均为采用镂空腐蚀工艺成型。
工艺流程:清洁工件去油污(不锈钢或其他金属工件)--- 涂布---烤干--------- 显影--蚀刻—退膜
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