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四---碳在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，仅在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015％重量比，然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒---物。以活性炭与氟为原料经---反应制备。在装有活性炭的反应炉中，缓缓通入高浓氟气，并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。反应放热后，氟开始和碳化硅进行反应，通入等体积的干燥氮气以稀释氟气，使反应继续进行，生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化。

四---碳的热稳定性---。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198 °c时，四---碳具有单斜的结构，晶格常数为a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。四---碳的溶氧性---，因此被科学家用于超---潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功，在275米到366米的---内，小白鼠仍可安全脱险。四---碳在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，仅在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015％重量比，然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒---物。

四---碳也一样，比如我们公司生产的钢瓶装四---碳在14mpa的气压下也是液态的，在正常---压下就是气态的，四---碳是有一定毒性的应该不能用作呼吸。四---碳在不同的---压下呈现的状态是不同的，就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四---碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体，发挥性较高.四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。

是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，高纯气高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。温室气体，其造成温室效应的作用是---的数千倍。氟代烃的低层---中比较稳定，而在上层---中可被能量的紫外线分解。在全球范围内，高纯度四---碳应用于欧洲、亚太地区、北美、中东、非洲和南美洲等地区，受电子产业发展程度不同影响，对于高纯度四---碳的需求也不同，亚洲地区由于电子产业发展落后，近几年电子电器行业处于快速发展状态，因此使得该地区的高纯度四---碳消费量持续---。