洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在-集成电路生产的光刻---工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，---是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。因此衡量洁净室的噪声主要指标是：烦恼的效应由于噪声，使人感到不安宁而产生烦恼情绪，一般分为极安静、很安静、较安静、稍嫌吵闹，比较吵闹和极吵闹7个烦恼等级。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产的湿度范围为35—45%。
对于平行流洁净室《习惯上称层流洁净室，由于主要靠气流的“活塞打挤压作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指标。过去都参考美国20gb标准，采用0.45m/s．但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是---的，为了节能，也都在探求降低风速的可行性。所以压力差的物理意义就是漏泄或渗透风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
在我国，《空气洁净技术措施》和(洁净厂房设计规范都是这样规定的：
垂直平行流层流洁净室***0.25m/s
水平平行流层流洁净室***0.35 m/s
洁净隧道(clean tunnel)：以hepa或ulpa过滤器将制程区域或工作区域100%覆盖使洁净度等级提高至10级以上，可节省安装运转费用。此型式需将作业人员之工作区与产品和机器维修予以隔离，以避免机器维修时影响工作及品质。ulsi制程大都采用此种型式。5．静电的力学现象可导致筛孔被粉尘堵塞，纺纱线纷乱，印刷品深浅不均和制品污染。
洁净隧道另有二项优点：a.弹性扩充容易； b.维修设备时可在维修区轻易执行。
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工业洁净室净化工程洁净度等级：
食品卫生直接关系到人们的身体健身和-。影响食品卫生的因素有生产原料及辅料、生产工艺技术和生产环境等。食品生产环境包括可能与食品接触 的设备(工器具)、人员和空气等，其安全生产控制的目的是为了防止食品在不卫生的条件下加工。适用范围：适用于大部分工业厂房、仓库、停车场、货仓式商场等，尤其是有车辆行走的区域。食品生产用洁净间(区)的污染控制是食品生产环境控制的关键 环节，其控制对象包括尘粒和微生物。
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