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等离子开封设备plasmaetch是一个---性的气体为基础的半导体蚀刻系统。采用以前---见过的应用微波气体化学基团为各向同性腐蚀。plasmaetch腐蚀大部分样本大小，封装类型和引线键合的类型。无论它是一个传统的金丝样品或者该样品设有铜或银导线，plasmaetch都提供了的蚀刻。等离子开封设备是为快速蚀刻模具化合物，聚酰芯片---研发的，无需攻击敏感的接线便可将芯片开封。

功能：利用不同材料的等离子体具有较好的选择性，能够---的去除器件内部的塑封料而不损伤焊线或其他金属结构。

应用：可用于表面未作保护的芯片的开封，或对那些对酸十分敏感的产品的环氧材料的去除。可有效应用于激光开封后的芯片的表面处理。

优点：只对环氧材料进行去除，不会对金属焊线和金属布线造成损伤，具有较强的选择性，可以一次进行多颗样品的处理，从而有效地提率。