NR7 6000PY光刻胶厂家-「赛米莱德」

正负光刻胶

正负光刻胶

光刻胶分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。正胶的图像与掩模板的图像是一致的，故此叫正胶，利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。

一般来说线宽的用正胶,线窄的用负胶! 正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显---图形有涨缩，负性胶---在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以---负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响孔。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶---，正胶---。二、预烘和底胶涂覆pre-bakeandprimervapor由于光刻胶中含有溶剂，所以对于涂好光刻胶的硅片需要在80度左右的。赛米莱德提供美国futurrex的光刻胶的供应与技术参数。

nr9-1000py

问题回馈：

1．我们是led制造商，麻烦几款可以用于离子蚀刻和lift-off工艺的光刻胶。

a 据我所知，futurrex

有几款胶很，nr7-1500p

nr7-3000p是专门为离子蚀刻

设计的，nr9-3000py可以用于lift-off上的应用。

2．请问有没有可以替代goodpr1518，micropure去胶液和goodpr显影液的产品？

a 美国光刻胶，futurrex

正胶pr1-2000a

, 去胶液rr4，和显影液rd6可以解决以上问题。

3．你们是否有可以替代shipley

s1805的用于dvd的应用产品？

a 我们建议使用futurrex

pr1-500a , 它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，

反射比较少，不需要hmds，rie后去除容易等~

4． 求助，耐高温的光阻是那一种？

a futurrex, nr7 serious(负光阻)orpr1 serious(正光阻)，再经过hmcts

silyiation process,可以达到耐高温200度，pspi透明polyimide,可耐高温250度以上。

5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？

a futurrex , nr4-8000p比干膜，和其他市面上的湿膜适合，和理想。

6．请教lift-off制程哪一种光阻适合？

a 可以考虑使用futurrex

，正型光阻pr1，负型光阻用nr1&nr7,它们都可以耐高温180度，完全可以取代一般制作pattern的光阻。

7．请问，那位知道，rie

mask,用什么光阻比较好？

a 正型光阻用pr1系列，负型光阻使用nr5，两种都可以耐高温180度。

8．一般厚膜制程中，哪一种光阻适合？

a nr9-8000p有---的深宽比超过4：1，一般厚膜以及，mems产品的高需求。

9．在deep

rie和mask 可以使用nrp9-8000p吗？

a 建议不使用，因为使用nr5-8000理想和适合。

10．我们是oled，我们有一种制程上需要一层spacer，那种光阻适合？

a 有一种胶很适合，美国futurrex

生产的nr1-3000py

and和

nr1-6000py,都适合在oled制程中做spacers

nr9-3000py

11．请教~有没有同时可以满足rie

process 和lift-off

process的光阻，谢谢！

a 我们使用futurrex

nr1-300py来满---上工艺的需求。

12．futurre光刻胶里，有比较容易去除的负光阻吗？

a nr9-系列很容易去除，可以满足去胶需要。

13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，希望找到好的替代光阻？

a nr9-8000因为有---的ar比例，适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。

14．传统的color

filter 制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有更快的方法制作coior

filter?

a 用于silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，同时光阻不需要reflow, 颜色也不会老化改变，只需要在filter上面加热溶解pr1-2000s光阻，microlenses就能形成！

15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？

a 美国futurrex公司，专门生产应用化学品的，可以为平坦化的材料提供pc3-6000和pc4-1000都是为平坦化用途设计，台湾企业用的比较多。

16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布protective

coating，那种适合？？

a 美国futurrex，pc4-10000。

17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？

a 我们公司是使用futurrex

pc3-6000,可以替代的，而且去除比较容易，你可以---下。

18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与mems应用的光刻胶吗？

a nr4-8000p可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底nr9-8000p是适合的选择。

19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？

a 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，nr4-8000p是专门为光波导图案应用进行设计的产品。