NR9 3000PY光刻胶公司价格合理「赛米莱德」

正性光刻胶

正性光刻胶

正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中，感光剂是光敏化合物，常见的是------dnq。在---前，dnq是一种---的溶解，降低树脂的溶解速度。在紫外---后，dnq在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。同时，这一步骤还可以减轻因高速旋转形成的薄膜应力，从而提高光刻胶衬底上的附着性。这种---反应会在dnq中产生羧酸，它在显影液中溶解度---。正性光刻胶具有---的对比度，所以生成的图形具有---的分辨率。

北京赛米莱德贸易有限公司供应美国futurrex新型lift-off光刻胶nr9-3000py，nr9i-3000py有下面的优势： 1. 比较高的光刻速度，可以定制光刻速度来---产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据---能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用rr5去胶液可以很容易的去胶 nr9-3000py的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。niepce的发明100多年后，即第二次大战期间才应用于制作印刷电路板，即在塑料板上制作铜线路。

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pc6-16000

nr9-3000py 相对于其他光刻胶具有如下优势：

- 优异的分辨率性能

- 快速地显影

- 可以通过调节---能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度

- 耐受温度100℃

- 室温储存保质期长达3 年

nr9-1000py 0.7μm - 2.1μm

nr9-1500py 1.1μm - 3.1μm

nr9-3000py 2.1μm - 6.3μm

nr9-6000py 5.0μm -

12.2μm  

resist thickness

nr71-1000py 0.7μm - 2.1μm

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光刻胶

光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成，又被称为光致抗蚀剂，这是一种对光非常敏感的化合物。此外，光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。光刻胶介绍光刻胶自1959年被发明以来一直是半导体---材料，随后被改进运用到pcb板的制造，并于20世纪90年代运用到平板显示的加工制造。在受到紫外光---后，它在显影液中的溶解度会发生变化。

分类

根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。

正胶

---前对显影液不可溶，而---后变成了可溶的，能得到与掩模板遮光区相同的图形。

优点：分辨率高、对比度好。

缺点：粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。

灵敏度：---区域光刻胶完全溶解时所需的能量

负胶egative






photo resist

与正胶反之。

优点： ---的粘附能力和抗刻蚀能力、感---度快。

缺点： 显影时发生变形和膨胀，导致其分辨率。

灵敏度：保留---区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。