晶圆酸洗机来电咨询「苏州晶淼半导体」

硅片刻蚀台

苏州晶淼作为国内的湿法制程设备制造企业之一，一直全心服务于微电子集成电路、半导体材料、半导体照明led、光伏太阳能、lcd-tft 液晶等行业领域。通过多年清洗设备的研发生产经验及周到快捷的售后服务赢得了越来越多的客户---。

多年来，苏州晶淼一直---于为半导体材料、微电子集电路、led、有机发光二级管、三极管、电力电子器件、分立器件、mems传感器、光伏太阳能、等行业域提供完备工序的湿法清洗、腐蚀制程设备。

法蚀刻仍被广泛地应用于当今集成电路制造领域,因其工艺可准确控制薄膜的去除量以及工艺过程中对原材料的损耗较低,在今后很长一段时间内其---将无法被取代.随着工艺尺寸的不断缩小,器件---性变得越来越重要,但湿法蚀刻均匀性却逐渐成为提高器件---性的一个瓶颈.集成电路工艺技术正进一步向大尺寸晶圆和小尺寸单个器件的方向发展。

湿法刻蚀：用液体化学剂去除衬底表面的材料。早期普遍使用，在 3um 以后由于线宽控 制、刻蚀方向性的局限，主要用干法刻蚀。目前，湿法刻蚀仍用于特殊材料层的去除和 残留物的清洗。干法刻蚀：常用等离子体刻蚀，也称等离子体刻蚀，即把衬底暴露于气态中产生的等离 子，与暴露的表面材料发生物理反应、化学反应。

清洗槽也叫酸槽/化学槽，主要有hf,,h2so4,h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子,去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。

清洗设备主要由耐腐蚀机架、 酸槽、 水槽、 干燥槽、 控制单元、 排风单元以及气体和液体管路单元等几大部分构成。其中酸槽和管路单元是清洗设备的主要组成部分。 按照材料的差异， 槽体可分为用不锈钢材质的生产的槽、 用npp 材质生产的抗腐蚀的槽、 用pvdf材质生产的槽、 用ptfe材质生产的槽、 用石英材质生产的槽等， 按照功能的差异槽体又可分为酸碱刻蚀槽、 溢流清洗槽、 快速排水槽和使晶圆快速干燥的干燥槽等， 根据清洗工艺要求的不同， 还可以增加腐蚀液的超声及兆声清洗、 腐蚀液加热或制冷、搅拌、 循环及去离子水加热等清洗功能

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