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真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，一般称为干式镀膜技能。真空镀膜技能一般分为两大类，即物理气相堆积pvd技能和化学气相堆积cvd技能。

真空镀膜加工的基本技能要求

1、设备中的真空管道、静态密封零部件法兰、密封圈等的结构形式，应契合gb/t6070的规则。

2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应设备真空丈量规管，分别丈量各部位的真空度。当发现电场对丈量造成搅扰时，应在丈量口处设备电场屏蔽设备。

请问什么是pvd?

pvd是英文physical vapor deition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

请问pvd镀膜的具体原理是什么?

离子镀膜(pvd镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

采用pvd真空镀膜处理,清除镀膜室内的尘埃，设置洁净度高的工作间，保持室内高度清洁，是镀膜工艺对环境的基本要求。在空气湿度大的地方，除镀前要对基片、真空室各部件仔细清洗外，还要进行烘烤除气。为了防止油进入真空室，应注意油扩散泵返油，对高热能的扩散泵必须采取挡油措施。

真空镀膜运用是真空运用中的一个大支系，在电子光学、电力电子技术、物理化学仪器设备、包裝、机械设备及其金属表面处理技术性等诸多层面拥有 十分普遍的运用。真空镀膜运用，简易地了解便是在真空自然环境下，利用蒸镀、磁控溅射及其接着凝固的方法，在金属材料、夹层玻璃、瓷器、半导体材料及其塑件等物件上镶上金属材料塑料薄膜或是是土壤层。

真空镀膜加工则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

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