等离子开封机价格服务「苏州特斯特」

等离子开封设备plasmaetch是一个---性的气体为基础的半导体蚀刻系统。采用以前---见过的应用微波气体化学基团为各向同性腐蚀。plasmaetch腐蚀大部分样本大小，封装类型和引线键合的类型。无论它是一个传统的金丝样品或者该样品设有铜或银导线，plasmaetch都提供了的蚀刻。等离子开封设备是为快速蚀刻模具化合物，聚酰芯片---研发的，无需攻击敏感的接线便可将芯片开封。

激光开封的方法主要应用场合：

(1)  半导体器件的失效分析开封。塑封材料的和去除，取代传统的低效率化学品开封，解决化学品开封对铜线及内部器件的破坏。

(2)  塑封工艺设计和工艺参数有效性的验证。解决x射线无法检测铝线塑封后冲丝塌陷的问题，使完全开封后对铜线金线的打线点的仔细观察成为可能。

(3)  应用于模块使用厂家，进料检验时完全打开器件以观察内部是否存在设计或生产缺陷。

激光开封机性能指标：

功率调节范围：10%~100%。

光束直径：7~8mm。

光束：1.3~1.7。