硅片清洗机了解更多「在线咨询」

硅片腐蚀利用晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用对硅腐蚀的各向---，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚砂溶液作用下多次往返削切成硅片，金刚砂硬度---，会在硅片表面带来一定的机械损伤。如果损伤不去除，会影响太阳电池的填充因子。是在-生产中大量应用化工产品。由电解水而得，价格比较便宜，每500克6元。化学反应方程式为：2nacl + 2h2o ==通电== 2naoh + cl2↑ + h2↑ 。分碱性腐蚀优点是反应生成物无·，不污染空气和环境。不像hf-hno3酸性系统会生成有·的nox气体污染---。另外，碱性系统与硅反应，基本处于受控状态。有利于大面积硅片的腐蚀，可以---一定的平行度。

超声波清洗 ：

超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。目前所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流作用应用得更多。

按频率波可以分为三种，即次声波、声波、超声波。次声波的频率为20hz以下；声波的频率为20hz~20khz；超声波的频率则为20khz以上。其中的次声波和超声波一般人耳是听不到的。超声波由于频率高、波长短，因而传播的方向性好、穿透能力强，这也就是设计制作超声波清洗机的原因。