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半导体清洗机

其产品广泛用于电镀、半导体、制药、化工、饮料、眼镜、五金、珠宝等、铭牌等行业.生产供应:★晶片清洗机,硅片清洗机,工装清洗机, 半导体清洗工艺设备,led硅片清洗设备,太阳能硅片清洗机,清洗机,液晶玻璃清洗机,光刻清洗台，spm去胶清洗机，镀镍抛光清洗台，烧结化清洗机，磨角腐蚀清洗机，去磷硅玻璃清洗机，扩散化清洗机，炉管清洗机 ,超声波清洗机, 清洗台,各式石英管清洗机, 硅片甩干机等各式清洗机,甩干机及配件.

全自动硅片腐蚀清洗机

全自动硅片腐蚀清洗机型号：cgb-xxxx—xx系列，品牌：华林嘉业—cgb。该设备适用于2英寸、3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、8英寸硅晶圆片的清洗腐蚀，德国进口磁白pp板经雕刻后热弯/焊接组合加工;一、槽体结构：该槽体实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的排阀、di注入孔包括氮气鼓泡及顶部左右两侧的di喷嘴实现槽体的快速注入与排放。二、工艺控制：冲洗槽qdr的工作过程由独立k200型控制器-。所有工序均由机械手自动行走自动完成。

1.一键式全自动执行清洗和吹干动作，整个过程无需人工-

2.采用彩色触摸屏作为人机界面，集成操作和错误，报警显示

3.出水压力可调、主电机清洗，吹干转速可调、清洗，吹干时间可调针对不同需求

4.不同规格，适用于3inch～12inch的圆片及qfn芯片，也可针对不同规格的frame制作台盘

化学清洗槽也叫酸槽/化学槽，主要有hf,,h2so4,h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子,去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。

晶圆单片式清洗机拥有比槽式清洗机-的清洗效果，更能适应于半导体新制程工艺。

根据客户需求可定制2/4/6/8/12/16腔室，单腔室大处理速度可达到35片/小时。

可根据客户需求定制适用于8寸/12寸硅片清洗内部集成精密的化学药液配比装置和废液回收装置可选。

应用：专为清洗和蚀刻而设计，适用于前道和后道工艺清洗。