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请问什么是pvd?

pvd是英文physical vapor deition的缩写，中文意思是“物---相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

请问pvd镀膜的具体原理是什么?

离子镀膜(pvd镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

 对于已清洗过、不能存放于---环境的洁净表面，应采用密封容器或保洁箱储存，减少尘垢。在新氧化铝容器中储存玻璃底板，可以将对烃类蒸汽的吸附降到z低。这样的容器更倾向于吸附烃类。对于高不稳定性、对水汽敏感的真空镀膜加工，一般应储存在真空干燥箱中。

薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。

       镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物---相沉积法，化学气相沉积法和放电聚---等。真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物---相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的---条件。