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蚀刻技术的一般过程
1蚀刻技术的分类a.化学蚀刻b.电解蚀刻
2化学蚀刻的一般工艺流程预蚀刻***蚀刻***水洗***浸酸***水洗***去抗蚀膜***水洗***干燥
3电解蚀刻的一般工艺流程入橹***开启电源***蚀刻***水洗***浸酸***水洗***去抗蚀膜***水洗***干燥。
工艺流程
-法:工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干***贴膜或涂布***烘干***-*** 显影***烘干-蚀刻***脱膜***ok
网印法:开料***清洗板材(不锈钢其它金属材料)***丝网印***蚀刻***脱膜***ok
1 化学腐蚀chemical corrosion
化学腐蚀是指金属表面与非电解质直接发生纯化学作用而引起的破坏。金属在高温气体中的硫腐蚀、金属的高温氧化均属于化学腐蚀。
2 电化学腐蚀electrochemical corrosion
电化学腐蚀是指金属表面与离子导电的介质发生电化学反应而引起的破坏。电化学腐蚀是普遍、常见的腐蚀,如金属在-、海水、土壤和各种电解质溶液中的腐蚀都属此类。
3 物理腐蚀physical corrosion
物理腐蚀是指金属由于单纯的物理溶解而引起的破坏。其特点是:当低熔点的金属溶入金属材料中时,会对金属材料产生“割裂”作用。由于低熔点的金属强度一般较低,在受力状态下它将优先断裂,从而成为金属材料的裂纹源。应该说,这种腐蚀在工程中并不多见。
蚀刻曝出便是根据曝出印刷制版、显-,即将蚀刻地区的防护膜除去,在蚀刻时触碰化学溶液,做到融解浸蚀的功效,产生凸凹或是镂空雕花成形的实际效果。
显影是在硅片表面光刻胶中造成图型的关键因素。光刻胶上的能溶地区被有机化学显影剂融解,将由此可见的岛或是对话框图型留到硅片表面。普遍的显影方式是转动、喷雾器、侵润,随后显影。硅片用双蒸水清洗后脱水。
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