莞城PVD真空镀膜报价询问报价「泰坦金属」

请问采用pvd镀膜技术镀出的膜层有什么特点？采用pvd镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、-的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以-膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。

真空离子镀膜技术——对人体和生态环境真正无害，-。

pvd真空镀膜可镀ipg浅金、ip金色、ip炉内玫瑰金、ip咖啡色、ip铬、ip灰色、棕色、ip黑、色等。

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pvd镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的pvd真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

真空镀膜过程简单来说就是电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，电离出大量的离子和电子，电子飞向基片。离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。

但在实际辉光放电直流溅射系统中，自持放电很难在低于1.3pa的条件下维持，这是因为在这种条件下没有足够的离化碰撞。因此在低于1.3～2.7pa压强下运行的溅射系统提高离化碰撞就显得尤为重要。提高离化碰撞的方法要么靠额外的电子源来提供，而不是靠阴极发射出来的二次电子;要么就是利用高频放电装置或者施加磁场的方式提高已有电子的离化效率。