河南真空储存柜价格承诺守信 科创真空

真空除气储存柜的加热系统

1、加热区尺寸：定制

2、加热功率：30-80 kw实际功率可调

3、加热元件：钼片

4、隔热组件：钼+不锈钢

5、温度测量：s型热电偶

6、控温精度：±1℃

7、升温速率 ：由室温升至1000℃小于80min空载

8、加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，---体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现---的温度均匀性。具有使用---、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢310s板材料，并且焊接多道加强筋以---不变形。

9、加热控制：采用pid智能控温模块设计，可编辑30+段升温曲线，存贮20+组工艺配方，组合plc等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能，10寸液晶触摸屏显示操作，具有操作方便，功能---，稳定性好等特点。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

　---真空度高；

　控温精度高；

　更高的升温速率；

　智能化；

　可真空去除产品空洞与气泡；

　降低产品的氧化性；

　提高工艺室的洁净度。

真空除气炉、真空存储柜的使用环境

使用环境

　设备占地面积约：长2米，宽1.6米约3.2平米高1.95米；

　电源：380 v±38 v，50 hz±0.5 hz，约15kw外部电源用户自备；

　工件要求：无油污，无腐蚀性物质；

　环境温度：   5 ℃ ～ 35 ℃；

　相对湿度：  20%-85%；

　设备应安装在通风---的厂房内。