玻璃真空镀膜设备-「拉奇纳米」

薄膜油的表面测量不是一个几何概念，而是一个埋藏的概念，指的是表面分子(原子)的集合。平均表面指的是表面上所有原子的点对这个表面的代数和等于零。

我们通常把底物一侧表面分子集合的平均表面称为底物表面;膜边表面的平均表面称为膜的形状表面。将测量到的薄膜原子重新排列，使固体材料的密度和体积完全一致，均匀地分布在基体表面。那么平均表面称为薄膜当量表面。根据被测薄膜的物理性质，将其等效为与被测薄膜长、宽相同的大型固体材料薄膜，则其平均表面称为薄膜物理等效面。

真空镀膜机是在真空腔内进行镀膜，用于测量薄膜厚度，是需要的测量仪器来测量厚度尺寸的

真空镀膜机有很多种。一些制造公司按应用领域分类，一些按涂层技术分类。然而，如果按应用领域分类，则加以区分，因为真空镀膜机的应用领域非常广泛。如果按字段划分，则，更易于区分。因此，在购买真空镀膜机时，必须告知制造商需要电镀的工件、需要电镀的膜层和特殊要求，以便制造商与应用领域相对应的真空镀膜机。

影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

靶基距、气压的影响

磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，这些因素只能在小面积范围内起作用。

真空镀膜机需要考虑哪些因素

1.炉体可用不锈钢、碳钢或其组合材料制成。

2.根据工艺要求，选择不同规格和型号的镀膜设备，包括电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

3.夹具操作有旋转、旋转和旋转+旋转模式。用户可根据基板的尺寸和形状提出相应的要求。转速范围及精度：普通可调和变频调速。