常州硅片刻蚀设备服务介绍「苏州晶淼半导体」

半导体清洗

半导体清洗机在清洁过程中使用普通自来水、酒精、溶剂来进行清洗就可以了。没有那么多各种各样的清洗剂。

半导体清洗机大功率换能器清洗效果---，可用肉眼观察到，清洗后物体闪亮发光。而且他是机械定时控制开机时间。全不锈钢外壳与盖子、内胆，更显*档。新版本的半导体清洗机在防水性方面---改进，产品安全---，配了排水球阀，带加热配恒温系统，配不锈钢清洗篮可按照客户的要求设计制造。

清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响

清洗液的静压力大时，不容易产生空化，所以在密闭加压容器中进行超声清洗或处理时效果较差

清洗剂的选择要从两个方面来考虑：一方面要从污物的性质来选择化学作用效果好的清洗剂；另一方面要选择表面张力、蒸气压及粘度合适的清洗剂，因为这些特性与超声空化强弱有关。液体的表面张力大则不容易产生空化，但是当声强超过空化阈值时，空化泡崩溃释放的能量也大，有利于清洗；高蒸气压的液体会降低空化强度，而液体的粘滞度大也不容易产生空化，因此蒸气压高和粘度大的洁洗剂都不利于超声清洗。

此外，清洗液的温度和静压力都对清洗效果有影响，清洗液温度升高时空化核增加，对空化的产生有利，但是温度过高，气泡中的蒸气压增大，空化强度会降低，所以温度的选择要同时考虑对空化强度的影响，也耍考虑清洗液的化学清洗作用每一种液体都有一空化活跃的温度，水较适宜的温度是60-80℃，此时空化活跃。

需要清洗的产品：眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、贵重金属装饰品、手饰、各类精密零件

污染源1：涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘

污染源2：尘垢、盐、手垢、染料、锈、塑料残留物

使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类

使用清洗剂2：碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂，纯水

眼镜清洗剂大部分是纯净水加表面活性剂制成的，有的眼镜清洗剂里会加一些碱性清洗液，如洗洁精等，有的还添加了杀菌剂

单晶圆清洗(swc)系统，用于---的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在---不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片---意位置上的损伤阈值。nano-master的技术---了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的zui大化支持的清洗，同时---在样片的损伤阈值范围内。