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发布者：深圳市瑞泓科技有限公司 时间：2022-9-7
1.基材表面条件对涂装计划的影响
真空涂层由晶体或颗粒组成。晶体的大小、形状和位置决定了涂层的规划特性。在不同的电镀溶液中，金属涂层的规划特性也不同，主要是由于积累过程的不同。真空电镀开始时，在基材表面产生一些细长的点，即晶核，并随着时间的推移增加单晶量，并相互连接形成涂层。
2.基材表面状况对接触力的影响
接触力通常是指一个物体附着在另一个物体上的范围和水平。如果真空电镀的涂层因机械力或变形而脱落，或被气体吹走或因腐蚀而剥落，则涂层缺乏接触力。
pvd真空电镀工艺对环境的要求：这种真空装置设备对真空卫生的要求：所谓的常规真空工艺是指没有特殊要求的真空工艺过程。它们都需要没有积累的污染源。1.真空中的所有真空设备部件：无灰尘、铁屑、锈蚀；2.真空电镀设备的真空室外观应光滑，无软组织、气孔、内焊等影响真空的缺陷；真空室内运动部件不得使用机油作为润滑剂。
什么是uv真空电镀：uv是一种电镀油墨，uv真空电镀简单理解就是产品要用uv油做电镀加工。pvd真空电镀的各种工艺优势对比：电铸。一般采用铜材料作为零件的形状，通过东莞真空电镀使金属沉积在铸造模具上制造的过程。这种处理方法要求零件具有特殊的外观效果，如清晰明显的抛光和蚀纹分离线或特殊的锐角。合金通过电镀工艺沉积在其表面，通常堆积厚度达到几十毫米，然后切割形腔。
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