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阴极和阳极之间的电压差必须非常高，一般在数千伏到3百万伏特之间。它能发射并形成速度均匀的电子束，所以加速电压的稳定度要求不低于万分之一。

样品可以稳定地放在样品架上，此外往往还有可以用来改变样品如移动、转动、加热、降温、拉长的装置。

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透射电子显微镜结构和成像原理

透射电子显微镜结构包括两大部分：主体部分为照明系统、成像系统和观察照相室；辅助部分为真空系统和电气系统。

透射电镜的应用：

透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多。由于电子易散射或被物体吸收，故穿透力低，样品的密度、厚度等都会影响到后的成像，必须制备更薄的超薄切片，通常为50～100nm。所以用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。

常用的方法：超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。对于液体样品，通常是挂预处理过的铜网上进行观察。

滴几滴固定液，把标本浸在液滴中修整至合适大小时间 可稍长，用---挑出 3～5 粒标本，放入 1.5ml 尖头 ep 管。将

修整好的标本块放入固定液后，普通 4℃冰箱保存。取材时也可以用将预冷的 2.5%固定液冲入组织腔或表面，再按上述方法快速取材。 关于灌注取材：

灌注取材要求---，尽量不要灌注。因为灌注不充分或者灌注方式不对电镜样品灌注 法，反而会导致超微结构较差。直接取材时，严格操作，结构都不会太差。