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光刻胶市场

我国光刻胶市场规模2015年已达51.7亿元，同比增长11%，高于国际市场增速，但全球占比仍不足15%，发展空间---。2015年我国光刻胶产量为9.75万吨，而需求量为10.12万吨，依照需求量及产量增速预计，未来仍将保持---的局面。据智研咨询估计，得益于我国平面显示和半导体产业的发展，我国光刻胶市场需求，在2022年可能突破27.2万吨。在光刻胶生产种类上，我国光刻胶厂商主要生产pcb光刻胶，而lcd光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小，相关光刻胶主要依赖进口。放眼国际市场，光刻胶也主要被美国futurrex 的光刻胶、日本合成橡胶jsr、东京应化tok、住友化学、美国杜邦、德国巴斯夫等化工寡头垄断。2μm品牌产地型号厚度耐热温度应用futurrex美国pr1-500a0。

市场规模

中国半导体产业稳定增长，全球半导体产业向中国转移。据wsts和sia统计数据，2016年中国半导体市场规模为1659.0亿美元，增速达9.2%，大于全球增长速度1.1%。2016年中国半导体制造用光刻胶市场规模为19.55亿元，其配套材料市场规模为20.24亿元。预计2017和2018年半导体制造用光刻胶市场规模将分别达到19.76亿元和2---亿元，其配套材料市场规模将分别达到22.64亿元和29.36亿元。在28nm生产线产能尚未得到释放之前，arf光刻胶仍是市场主流半导体应用广泛，需求增长持续性强。近些年来，全球半导体厂商在中国---投设多家工厂，如台积电南京厂、联电厦门厂、英特尔大连厂、三星电子西安厂、力晶合肥厂等。euv光刻光路基于反射设计，不同于上一代的折射，其所需光刻胶主要以无机光刻胶为主，如金属氧化物光刻胶。诸多半导体工厂的设立，也拉动了国内半导体光刻胶市场需求增长。

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四、对准alignment

光刻对准技术是---前的一个重要步骤作为光刻的三大---之一，一般要求对准精度为细线宽尺寸的 1/7---1/10。随着光刻分辨力的提高 ，对准精度要求也越来越高 ，例如针对 45am线宽尺寸 ，对准精度要求在5am 左右。

受光刻分辨力提高的推动 ，对准技术也经历 迅速而多样的发展 。从对准原理上及标记结 构分类 ，对准技术从早期的投影光刻中的几何成像对准方式 ，包括视频图像对准、双目显微镜对准等，一直到后来的波带片对准方式 、干涉强度对准 、激光外差干涉以及莫尔条纹对准方式 。从对准信号--- ，主要包括标记的显微图像对准 、基于光强信息的对准和基于相位信息对准。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应，从而使正光刻胶被照射区域感光区域、负光刻胶未被照射的区域非感光区化学成分发生变化。