立式光催化氧化-厂服务周到 宜兴市凯斯特机械

催化焚烧与热力焚烧的对比

焚烧方式 起燃温度 焚烧温度 焚烧状况 nox发作 其它-发作

催化焚烧 200－400℃ 300－500℃ 低温无焰焚烧 几乎没有 无-并芘、二e英等致a物

热力焚烧 600—900℃ 600－800℃ 高温火焰中停留 发作必定量 有较高浓度上述致a物生成

焚烧温度低，无焰焚烧，无nox化合物发作；

焚烧速率快，焚烧-，无-并芘、二e英等j毒致a物质发作；

焚烧产物为无害的co2和h2o，无固废、污水、废溶剂及废气等二次污染物；

处理功率-，一次处理-合格率远高于其它处理方式；

技能设备简略，技能老练，设备及维运成本低，单位废气处理成本低；

合理规划的设备，运转安全-，功能安稳，plc全主动运转，无需专人保护；

适用规模广，合适高中低浓度、不同职业各类杂乱、恶臭废气处理；

设备构造紧凑，占地面积小。

高能光氧催化处理设备

在高能光子光解催化氧化除臭设备内，高能光子光束与空气反应产生的臭氧、·oh(-自由基)对恶臭气体进行协同分解氧化反应，同时大分子恶臭气体在高能光子作用下使其链结构断裂，使恶臭气体物质转化为无臭味的小分子化合物或者完全矿化，生成水和co2，达标后经排风管排入-，整个分解氧化过程在2秒内完成。硬质氧化行业发展已经有一定的历史，-人在时间的长河里，做出-次的实验与总结，得到现代的硬质氧化技术。工艺-之处，我们还在其前后分别加了g效过滤器和光触媒工艺，作用分别是g效过滤器去除大分子，光触媒再对某些剩余的废气进行第二次催化氧化处理，以达到-的处理效果。

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光催化氧化处理设备的应用原理？

  　众所周知，光催化氧化处理设备是一种有效进行除臭的净化装置，很多人对于该设备充满了好奇

　　在光催化氧化处理设备中追尾重要的就是tio2，我们首先在介绍一下它，tio2具有化学稳定性好、无d、-、易得、具有较正的价带电位和较负的导带电位等特点，是理想的光催化剂，也是目前使用多的一类光催化剂，因此它在除臭设备中的使用是-！对处理较大风量(小于10000m3/h)低浓度的恶臭废气，活性氧除臭设备具有明显的-性出资成本低，处理-，是恶臭废气管理的优选计划。

　　光催化氧化处理设备的工作原理主要的就是采用我们常说的光催化氧化反应。即让太阳光或其他一定能量的光照射光敏半导体催化剂时，激发半导体的价带电子发生带间跃迁，即从价带跃迁到导带，从而产生光生电子e-和空穴h+。

　　此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧-电子形成超氧负离子，而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。微弧氧化膜的成分和结构与普通阳极氧化膜完全不同，尽管可以笼统地认为微弧氧化是物理的放电过程与电化学过程协同作用，实际的反应机理仍然并不是非常清楚的，从微弧氧化的众多的名称也可见一斑。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性，能使几乎所有的有机污染物氧化至终产物co2和h2o，甚至对一些无机污染物也能-分解，不存在吸附饱和与二次污染问题。如此一来，便达到了光催化氧化处理设备的除臭工作目的。

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