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真空镀膜材料与湿式镀膜材料的区别：真空镀膜既不产生肺液也无环境污染。真空镀膜技术在电子学等方面主要用来制造电阻和电容元件。真空镀膜技术相关问题解答：请问pvd镀膜与传统的化学电镀(水电镀)相比有何优点？pvd镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。

真空镀膜过程简单来说就是电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，电离出大量的离子和电子，电子飞向基片。离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。

但在实际辉光放电直流溅射系统中，自持放电很难在低于1.3pa的条件下维持，这是因为在这种条件下没有足够的离化碰撞。因此在低于1.3～2.7pa压强下运行的溅射系统提高离化碰撞就显得尤为重要。提高离化碰撞的方法要么靠额外的电子源来提供，而不是靠阴极发射出来的二次电子;要么就是利用高频放电装置或者施加磁场的方式提高已有电子的离化效率。

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