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三氟甲
用途:用作电子工业等离子体化学蚀刻剂、低温-100℃制冷剂及氟有机化合物的原料。
理化性质: 是一种无色、微味,不导电的低毒类气体,是理想的卤代烷替代物。高浓度三氟甲
注意事项:储存于阴凉、通风的不燃气体库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与氧化剂、易可燃物分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。
其中主要应用于半导体集成电路的消费制造。在半导体工业中应用的有110余种单元特种气体,其中常用的有20~30种。在集成电路制造应用方面详细包括集成电路芯片制程、化学气相堆积和气体应用、刻蚀和气体应用、掺杂和气体应用。
在太阳能电池应用方面详细包括太阳能电池的应用、晶体硅太阳能电池消费工艺和气体应用、薄膜太阳能电池消费工艺和气体应用;在化合物半导体应用方面详细包括化合物半导体的应用、mocvd/led消费工艺和气体应用。
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